最近，国家集成电路产业投资基金与沈阳拓荆科技有限公司签署增资协议，投资额度共计2.7亿元，首次投资1.85亿元已经到位。该公司成为国内第2家得到支持的集成电路装备制造企业，先后开发出2-12英寸PECVD系列产品，特别是，12英寸国产PECVD设备在中芯国际集成电路制造有限公司累计生产突破10万片，薄膜制备的可靠性、可重复性及工艺技术达到国际先进水平。国家02专项“90-65纳米等离子体增强化学气相沉积设备的研发与产业化”项目，国拨资金1.3亿元全部到位。近年来，省、市科技部门分别累计支持该项目1750万元和3020万元，为实现公司的快速发展奠定了坚实的经济基础，专利申请量由4项增加到175项，产值由145万元增加到8000万元。目前，沈阳拓荆公司新厂区已经开工建设，ALD样机正在研制(已同国内最大的OLED柔性显示屏生产企业确定意向，2016年1季度设备出厂)，总投资6亿元的国家“十三五”02重大专项《1xnm3D NAND研发与产业化》项目正在启动。